[发明专利]加热坩埚和采用此加热坩埚的沉积装置有效
| 申请号： | 03133181.5 | 申请日： | 2003-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1478918A | 公开（公告）日： | 2004-03-03 |
| 发明（设计）人： | 琴智焕;池昶恂;金炯民;南宫晟泰 | 申请（专利权）人： | 三星日本电气移动显示株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/12 | 分类号： | C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 韩国蔚*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种沉积装置，包括真空腔和加热坩埚。其上将形成沉积膜的衬底安装在真空腔内。加热坩埚安装成与衬底相对以使有机化合物汽化。加热坩埚包括主体和内板。主体包括可容纳有机化合物的空间和通过其可排放汽化的有机化合物的喷嘴。内板安装在主体内，包括形成于朝向喷嘴的区域边缘周围的一个或多个开口，以便传送此汽化的有机化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 加热 坩埚 采用 沉积 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于沉积装置的加热坩埚，包括：主体，其具有可容纳有机化合物的空间和喷嘴，通过所述喷嘴可排放汽化的所述有机化合物；和安装在所述主体内的内部件，其具有形成于朝向所述喷嘴的区域边缘周围的一个或多个开口，以便传送所述汽化的有机化合物。
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