[发明专利]改性红外探测材料-非晶SiGe薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 03135366.5 申请日: 2003-07-04
公开(公告)号: CN1567598A 公开(公告)日: 2005-01-19
发明(设计)人: 杨宇;王光科;杨瑞东;马铁英;刘焕林;陈刚 申请(专利权)人: 云南大学
主分类号: H01L31/028 分类号: H01L31/028;H01L31/20
代理公司: 昆明正原专利代理有限责任公司 代理人: 赵云
地址: 650091云南省昆明市*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 改性红外探测材料一非晶SiGe薄膜的制备方法。本发明属于红外热探测材料的制备方法,特别是对非晶SiGe合金薄膜优化、改性的方法。本发明包含以下两个重要步骤,即首先在超高真空状态下采用电子束蒸发镀膜方法制备α-SiGe薄膜,然后利用离子注入方法对α-SiGe薄膜进行改性。本方法可获得具有高电阻温度系数(TCR)的α-SiGe薄膜红外热探测材料,提高生产效率,降低了生产成本,可解决常规技术生长非晶GeSi薄膜时由于光放电,等离子体对已沉积的薄膜会破坏,使材料变坏等不足。
搜索关键词: 改性 红外 探测 材料 sige 薄膜 制备 方法
【主权项】:
1、改性红外探测材料—非晶SiGe薄膜的制备方法,其特征是首先在真空状态下采用电子束蒸发法制备α-SiGe薄膜,然后利用离子束注入方法对α-SiGe薄膜进行改性。
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