[发明专利]改性红外探测材料-非晶SiGe薄膜的制备方法无效
申请号: | 03135366.5 | 申请日: | 2003-07-04 |
公开(公告)号: | CN1567598A | 公开(公告)日: | 2005-01-19 |
发明(设计)人: | 杨宇;王光科;杨瑞东;马铁英;刘焕林;陈刚 | 申请(专利权)人: | 云南大学 |
主分类号: | H01L31/028 | 分类号: | H01L31/028;H01L31/20 |
代理公司: | 昆明正原专利代理有限责任公司 | 代理人: | 赵云 |
地址: | 650091云南省昆明市*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 改性红外探测材料一非晶SiGe薄膜的制备方法。本发明属于红外热探测材料的制备方法,特别是对非晶SiGe合金薄膜优化、改性的方法。本发明包含以下两个重要步骤,即首先在超高真空状态下采用电子束蒸发镀膜方法制备α-SiGe薄膜,然后利用离子注入方法对α-SiGe薄膜进行改性。本方法可获得具有高电阻温度系数(TCR)的α-SiGe薄膜红外热探测材料,提高生产效率,降低了生产成本,可解决常规技术生长非晶GeSi薄膜时由于光放电,等离子体对已沉积的薄膜会破坏,使材料变坏等不足。 | ||
搜索关键词: | 改性 红外 探测 材料 sige 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、改性红外探测材料—非晶SiGe薄膜的制备方法,其特征是首先在真空状态下采用电子束蒸发法制备α-SiGe薄膜,然后利用离子束注入方法对α-SiGe薄膜进行改性。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的