[发明专利]平面基质包被聚合物组成及其应用无效
| 申请号： | 03135618.4 | 申请日： | 2003-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN1514246A | 公开（公告）日： | 2004-07-21 |
| 发明（设计）人： | 邹方霖;陈春生;陈宁;王建霞 | 申请（专利权）人： | 成都夸常科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N33/545 | 分类号： | G01N33/545;C12Q1/24;C08L39/06 |
| 代理公司： | 成都天元专利事务所 | 代理人： | 张新 |
| 地址： | 610041四川省成都*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种平面基质包被聚合物组成及其应用，具体涉及一种用于包被平面基质的包被组成、一种聚合物包被片基、一种含聚合物包被的反应器和一种含有此一反应器的装置，特别是芯片装置，本发明的包被聚合物包括高分子表面活性剂和优化取代聚合物，其具有足够高的结合配基的活性和最小化的非特异结合活性。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 基质 包被 聚合物 组成 及其 应用 | ||
【主权项】：
1、一种平面基质包被聚合物组成，其特征在于：其包括至少一种适度活化聚合物，所述适度活化聚合物包括高分子表面活性剂和优化取代聚合物，所述优化取代聚合物中活性侧基的取代率为3％-50％、优选方案为3％-23％、更优选方案为3％-13％。
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