[发明专利]互补式金氧半导体及其组合元件有效

专利信息
申请号: 03136429.2 申请日: 2003-05-19
公开(公告)号: CN1549346A 公开(公告)日: 2004-11-24
发明(设计)人: 胡珍仪;孙文堂 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 王学强
地址: 台湾省新竹科学*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种互补式金氧半导体,是由一第一型薄膜晶体管以及一第二型薄膜晶体管所构成,而第一型薄膜晶体管包括一栅极、一通道区、一第一型掺杂区以及一源极掺杂区,其中通道区、第一型掺杂区与源极掺杂区沿一第一方向排列配置。第二型薄膜晶体管则包括一栅极、一通道区、一第二型掺杂区以及一漏极掺杂区,其中通道区、第二型掺杂区与漏极掺杂区亦沿第一方向排列配置,且第二型掺杂区与第一型掺杂区沿一第二方向排列配置,第二方向系与第一方向垂直。而且,各薄膜晶体管中的掺杂区通过一导线电性相连,其中前述导线的延伸方向为第二方向。
搜索关键词: 互补 式金氧 半导体 及其 组合 元件
【主权项】:
1.一种互补式金氧半导体,其特征是,包括:一第一型薄膜晶体管,包括:一第一栅极;一第一岛状多晶硅层,位于该第一栅极下,其中该第一岛状多晶硅层包括:一第一通道区,位于该第一栅极正下方;一源极掺杂区,位于该第一栅极的一侧;以及一第一型掺杂区,位于该第一栅极的另一侧,其中该源极掺杂区、该第一通道区与该第一掺杂区沿一第一方向排列配置;一第二型薄膜晶体管,包括:一第二栅极;一第二岛状多晶硅层,位于该第二栅极下,其中该第二岛状多晶硅层包括:一第二通道区,位于该第二栅极正下方;一第二型掺杂区,位于该第二栅极的一侧;以及一漏极掺杂区,位于该第二栅极的另一侧,其中该第二型掺杂区、该第二通道区与该漏极掺杂区沿该第一方向排列配置,且该第二型掺杂区与该第一型掺杂区沿一第二方向排列配置,该第二方向与该第一方向垂直;一层间介电层,覆盖于该第一型薄膜晶体管及该第二型薄膜晶体管上,该层间介电层具有复数个接触窗洞,以暴露出该第一掺杂区以及该第二掺杂区;一导线,位于该层间介电层上,并通过该些接触窗洞连接该第一掺杂区以及该第二掺杂区,该导线的延伸方向为该第二方向;一源极接触金属,配置在该层间介电层上以及该层间介电层中,且该源极接触金属与该源极掺杂区电性连接;以及一漏极接触金属,配置在该层间介电层上以及该层间介电层中,且该漏极接触金属与该漏极掺杂区电性连接。
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