[发明专利]铟系金属微粒及其制造方法、含铟系金属微粒的涂布液、带覆膜的基材及显示装置无效
申请号: | 03136718.6 | 申请日: | 2003-05-20 |
公开(公告)号: | CN1459348A | 公开(公告)日: | 2003-12-03 |
发明(设计)人: | 俵迫祐二;金南宪;平井俊晴 | 申请(专利权)人: | 触媒化成工业株式会社 |
主分类号: | B22F9/24 | 分类号: | B22F9/24;C03C17/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 胡烨 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供能用于形成防带电性和电磁屏蔽性优良,且制造可靠性和成本也非常理想的透明导电性覆膜的铟系金属微粒及其分散溶胶。该铟系金属微粒的特征是,平均粒径在2~200nm的范围内。上述铟系金属微粒可以只含有铟金属,也可以含有铟金属和选自Sb、Sn、Ag、Au、Zn、Cu、Bi、Cd的1种以上的金属成分。上述铟系金属微粒分散到水及/或有机溶剂而形成铟系金属微粒分散溶胶。该铟系金属微粒的制造方法的特征是,在含铟化合物及有机稳定剂、且溶剂中的醇含量在40重量%以上的混合醇溶液中加入还原剂。 | ||
搜索关键词: | 金属 微粒 及其 制造 方法 含铟系 涂布液 带覆膜 基材 显示装置 | ||
【主权项】:
1.铟系金属微粒,其特征在于,平均粒径在2~200nm的范围内。
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