[发明专利]含有碳－碳双键烃的脱卤素方法有效
| 申请号： | 03136830.1 | 申请日： | 2000-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1478764A | 公开（公告）日： | 2004-03-03 |
| 发明（设计）人： | 大桥幸一;高屿务;黑木辉久;藤村耕治;德本佑一 | 申请（专利权）人： | 日本石油化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C7/12 | 分类号： | C07C7/12;C08F10/08 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 利用含有铝原子的无机固体处理剂，处理含有杂质氟、氯等的卤素化合物、具有非共轭碳碳双键的有机化合物例如利用三氟化硼类催化剂制造的丁烯聚合物，从而可以有效地进行脱卤素化。另外通过使氨、胺类等碱性物质共存，可以在长时间范围内抑制非共轭碳碳双键的异构化，同时持续进行脱卤素处理。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 双键 卤素 方法 | ||
【主权项】：
1.一种除去杂质卤素的方法，其特征在于，在使含有杂质卤素化合物、而且在分子中具有1个以上的非共轭碳-碳双键的有机化合物，接触含有铝原子的无机固体处理剂，从而除去卤素时，为了抑制有机化合物的所述碳-碳双键的异构化，使足够量的碱性物质共存于反应体系中。
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