[发明专利]用于形成防反射膜的涂布液组合物、光刻胶层合体以及光刻胶图案的形成方法无效
| 申请号： | 03136946.4 | 申请日： | 2003-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN1460894A | 公开（公告）日： | 2003-12-10 |
| 发明（设计）人： | 胁屋和正;久保田尚孝;横井滋;原口高之 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/023 | 分类号： | G03F7/023;G03F7/00;C09D5/00;C09K3/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了一种用于形成防反射膜的涂布液组合物、光刻胶层合体以及光刻胶图案形成方法。所说的用于形成防反射膜的涂布液组合物是用于形成在与ArF准分子激光相对应的正型光刻胶层上层合的防反射膜的涂布液组合物，其中含有(a)水溶性膜形成成分、(b)碳原子数为4以上的全氟烷基羧酸和碳原子数为5以上的全氟烷基磺酸中的至少1种含氟化合物、(c)由(c－1)碳原子数1～4的氟代烷基磺酸、和/或(c－2)1个以上的氢原子被氟代烷基磺酰基取代的碳原子数1～4的烃(烃基中的1个以上的碳原子也可以被氮原子取代)构成的酸性化合物。本发明提供一种在使用与ArF准分子激光相对应的光刻胶来形成极微细光刻胶图案的过程中，用于形成图案头部形状的改善效果优良的上层防反射膜的涂布液组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 反射 涂布液 组合 光刻 合体 以及 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成防反射膜的涂布液组合物，它是用于形成在含有如下聚合物的光刻胶层上层合的防反射膜的涂布液组合物，所说的聚合物是以侧链上具有至少1个多环式烃基、且利用酸的作用可使其对碱的溶解性增大的(甲基)丙烯酸酯单元作为构成单元的聚合物；该涂布液组合物中含有以下成分：(a)水溶性膜形成成分，(b)从碳原子数为4以上的全氟烷基羧酸和碳原子数为5以上的全氟烷基磺酸中选出的至少1种含氟化合物，(c)由(c-1)碳原子数1～4的氟代烷基磺酸、和/或(c-2)1个以上的氢原子被氟代烷基磺酰基取代的碳原子数1～4的烃(烃基中的1个以上的碳原子也可以被氮原子取代)构成的酸性化合物。
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