[发明专利]投影曝光装置

摘要

本发明提供一种可实施精度高的位置对准的投影曝光装置。由曝光光照明装置4用曝光光照射光掩模50的掩模标记51，经由投影曝光透镜70将其成像于成像部5，由CCD照相机2对此进行摄影进行数据化并记录于运算控制装置11，作为所记录的掩模标记51’使用。接着，由红外线照明装置3用红外线照射电路板标记61得到电路板标记61的图像，检测上述掩模标记51’与电路板标记61的误差并进行位置对准。掩模标记51’与电路板标记61同时在显示装置12上重合显示。

主权项

1.一种投影曝光装置，包括：光掩模，其描绘有电路等图形；载物台，其放置被曝光该光掩模图形的曝光对象物；投影光学系统，其可以相对于曝光对象物缩小或放大地曝光该光掩模图形，该投影曝光装置的特征在于，包括：掩模标记，其设于上述光掩模上，供位置对准用；对象物标记，其设于上述曝光对象物上，供位置对准用；掩模标记照明光源，其用与曝光波长相同波长的光照射上述掩模标记；掩模标记成像体，其设置于上述载物台上的上述曝光对象物放置范围外的指定位置，经由上述投影光学系统将与曝光波长相同波长的光所照射的掩模标记的像成像；掩模标记检测装置，其对成像于该掩模标记成像体上的掩模标记的像进行摄影，将该像数据化并存储；对象物标记照明光源，其用与曝光波长不同波长的非曝光波长光照射上述对象物标记；对象物标记检测装置，其对由上述非曝光波长光所照射的对象物标记进行摄影；位置调整装置，其根据上述被数据化的掩模标记像与上述被摄影的对象物标记像，调整上述光掩模与曝光对象物的位置关系。