[发明专利]二级寻址高密度母盘刻录机刻写机构无效
申请号: | 03137755.6 | 申请日: | 2003-06-24 |
公开(公告)号: | CN1463002A | 公开(公告)日: | 2003-12-24 |
发明(设计)人: | 李玉和;李庆祥;李晟;郭阳宽;訾艳阳 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G11B7/26 | 分类号: | G11B7/26;G11B7/00 |
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地址: | 100084 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 二级寻址高密度母盘刻录机刻写机构,属于超高密度光存储技术领域。为了解决高密度母盘刻录机精确寻址定位和稳定、高速的调焦刻录问题,本发明公开了二级寻址高密度母盘刻录机刻写机构,包括高精度导轨,驱动架、激光器、压电陶瓷PZT、支撑臂、棱镜、悬臂、筒状压电陶瓷PZT堆和透镜组;驱动架两侧具有凹槽与高精度导轨配合,压电陶瓷PZT固定在驱动架和支撑臂中间,驱动架、压电陶瓷PZT和支撑臂具有一通槽,支撑臂的末端嵌有棱镜,悬臂一端固定在支撑臂的下表面,另一端连接内嵌透镜组的筒状压电陶瓷PZT堆。本发明可保证光学头在光盘上的定位精度在几十nm内,且SIL透镜与母盘的距离远小于激光波长。 | ||
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【主权项】:
1.二级寻址高密度母盘刻录机刻写机构,其特征在于:所述刻写机构包括高精度导轨(1),驱动架(2)、激光器(3)、压电陶瓷PZT(6)、支撑臂(5)、棱镜(9)、悬臂(8)、筒状压电陶瓷PZT堆(10)和透镜组(11);所述驱动架(2)两侧具有凹槽与高精度导轨配合,所述压电陶瓷PZT(6)固定在所述的驱动架(2)和所述的支撑臂(5)中间,所述驱动架(2)、压电陶瓷PZT(6)和支撑臂(5)具有一通槽(7),所述支撑臂(5)的末端嵌有棱镜(9),并在棱镜(9)的反射面下开有通光孔(12),所述悬臂(8)一端固定在所述支撑臂(5)的下表面,另一端连接筒状压电陶瓷PZT堆(10),所述筒状压电陶瓷PZT堆(10)的内部有环形凹槽,内嵌透镜组(11);所述激光器(3)固定在驱动架(2)中心的凹坑内部,其输出的激光通过通槽(7)中埋设的光纤输入到棱镜(9)的反射面上,反射光经通光孔(12)和透镜组(11)聚焦在玻璃母盘上;所述通槽(7)中埋设的与外部控制单元相连的控制信号线分别与压电陶瓷PZT(6)和筒状压电陶瓷PZT堆(10)相连。
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