[发明专利]酞菁化合物、其生产方法和近红外吸收染料和利用该染料的近红外吸收滤光器有效
申请号: | 03141300.5 | 申请日: | 2003-06-12 |
公开(公告)号: | CN1468856A | 公开(公告)日: | 2004-01-21 |
发明(设计)人: | 增田清司;北尾倍章 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本触媒 |
主分类号: | C07D403/14 | 分类号: | C07D403/14;C09B47/04;H01J17/02;G02F1/01 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝;郭广迅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供了具有特定结构的酞菁化合物(1),其具有优异的吸收近红外的性能,选择吸收近红外辐射、尤其超过920nm和不到1050nm波长范围的近红外辐射的性能,以及在溶剂中的溶解度,与树脂的相容性,以及耐热性、耐光性和耐候性等特征性能,和近红外吸收滤光器,其特征在于使用酞菁化合物(1)和酞菁化合物(2),后者至少在800-920nm范围内具有最大吸收波长。其具有长使用寿命,并且可以广泛应用,不用对基材进行选择。 | ||
搜索关键词: | 化合物 生产 方法 红外 吸收 染料 利用 滤光 | ||
【主权项】:
1.由以下通式(1)表示的酞菁化合物(1),(其中,Z2、Z3、Z6、Z7、Z10、Z11、Z14和Z15独立地表示SR1、SR2、OR3或者卤素原子,和它们中至少一个表示SR2,Z1、Z4、Z5、Z8、Z9、Z12、Z13和Z16独立地表示NHR4、NHR5、SR1、SR2、OR3或者卤素原子,和它们中至少一个表示NHR5和它们中至少四个表示OR3,和R1表示任选地具有取代基的苯基、任选地具有取代基的芳烷基或者任选地具有取代基的碳原子数为1-20的烷基基团,R2表示任选地具有碳原子数为1-20的烷氧基基团的苯基,R3和R4独立地表示任选地具有取代基的苯基、任选地具有取代基的芳烷基或者任选地具有取代基的碳原子数为1-20的烷基基团,R5表示任选地具有取代基的碳原子数为1-20的烷基基团,R1、R2、R3、R4和R5的多个可以分别地相同或者不同,和M表示非金属、金属、金属氧化物或者金属卤化物)。
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