[发明专利]曝光装置及载物台装置、以及器件制造方法无效
| 申请号： | 03141315.3 | 申请日： | 2003-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN1470945A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | 西健尔;奥村正彦;奥野浩生 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 谷慧敏;关兆辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 通过控制装置，在相对晶片上的一个划分区域的曝光结束后，到为了进行下一划分区域的曝光，通过载物台控制系统使初缩掩模板载物台和晶片载物台在扫描方向上开始减速之前的期间，把下一划分区域的曝光用控制参数的设定信息传送给载物台控制系统。因此，载物台控制系统为了从上位装置获卸载一划分区域的曝光用控制参数的设定信息，不需要使两载物台在加速前暂且停止，所以不存在停止时间，相应地可以提高生产能力。该场合时，不会产生什么妨碍，所以不会损坏其他的装置性能。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 载物台 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，在规定的扫描方向上同步移动掩模板和物体，把上述掩模板的图形依次转印到上述物体上的多个划分区域中，其特征在于，具有：掩模板载物台，支撑上述掩模板，至少可以在上述扫描方向上移动；物体载物台，支撑上述物体，可以在二维平面内进行移动；载物台控制系统，控制上述两载物台；和控制装置，在最迟相对上述一个划分区域的曝光结束后，到为了进行下一划分区域的曝光，通过上述载物台控制系统使上述两载物台在上述扫描方向上的减速开始之前的期间，至少把下一划分区域的曝光所需的控制参数的设定信息传送给上述载物台控制系统。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03141315.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光刻设备和器件制造方法
- 下一篇：化学放大刻蚀剂材料和使用它的图案化方法
