[发明专利]一种聚氯乙烯/蒙脱石纳米复合材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 03141924.0 申请日: 2003-07-29
公开(公告)号: CN1482170A 公开(公告)日: 2004-03-17
发明(设计)人: 任杰;刘艳 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: C08L27/06 分类号: C08L27/06;C08K3/34
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 代理人: 陆飞
地址: 20009*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明为一种聚氯乙烯/蒙脱石纳米复合材料,其原材料包括:聚氯乙烯、插层树脂(氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物,抗冲型丙烯酸酯)和有机改性蒙脱石、稳定剂(铅盐,有机锡,硬脂酸钙,硬脂酸钡等)和加工助剂,采用母料法熔融插层制备获得。本发明的复合材料力学性能明显提高,并且材料的加工性能也有所改善。
搜索关键词: 一种 聚氯乙烯 蒙脱石 纳米 复合材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种聚氯乙烯/蒙脱石纳米复合材料,其特征在于由有机改性蒙脱石插层聚氯乙烯制备而成,其原料按重量的组份配比如下:聚氯乙烯 100插层母料 10.5-15.5稳定剂 2-5加工助剂 1其中,插层母料的按重量的组份配比如下:插层树脂 100有机改性蒙脱石(O-MMT) 10-50稳定剂 2-5
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