[发明专利]大面积晶体的温梯法生长装置及其生长晶体的方法无效
申请号: | 03142108.3 | 申请日: | 2003-08-08 |
公开(公告)号: | CN1485467A | 公开(公告)日: | 2004-03-31 |
发明(设计)人: | 周国清;徐军;司继良;赵广军;邓佩珍 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种大面积晶体的温梯法生长装置及其生长晶体的方法,该装置包括钟罩式真空电阻炉,炉体内部的结构包含坩埚和发热体,坩埚置于炉体内中心位置上,坩埚是底部中心带有一籽晶槽的锥形坩埚,所述的发热体是由圆筒形石墨主发热体和锥状异形辅发热体构成,炉体之外另附真空系统、UPS稳压电源、2套可控硅触发线路和2套智能温控仪,分别作为主发热体和辅发热体的加热电源,独立控温,分别设有热电偶对主发热体和辅发热体的温度进行测试。本发明装置在晶体生长过程中可以动态调整温度梯度,生长后期实现晶体原位退火。利用本发明可以对易开裂晶体,如氟化钙晶体、铝酸钇晶体、石榴石晶体和蓝宝石晶体等生长出直径大于5英寸的完整的不开裂的晶体。 | ||
搜索关键词: | 大面积 晶体 温梯法 生长 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
1、一种大面积晶体的温梯法生长装置,包括钟罩式真空电阻炉,炉体内部的结构包含坩埚和发热体,坩埚(1)置于炉体内中心位置上,坩埚(1)是底部中心带有一籽晶槽的锥形坩埚,其特征在于所述的发热体是由园筒形石墨主发热体(2)和锥状异形辅发热体(3)构成,炉体之外另附真空系统、UPS稳压电源、2套可控硅触发线路和2套智能温控仪,分别作为主发热体(2)和辅发热体(3)的加热电源,独立控温,分别设有测量辅发热体(3)和主发热体(2)温度的热电偶(5)和热电偶(12)。
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