[发明专利]基板处理装置及基板处理方法无效
| 申请号： | 03142780.4 | 申请日： | 2003-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN1468667A | 公开（公告）日： | 2004-01-21 |
| 发明（设计）人： | 平真树 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B08B11/00 | 分类号： | B08B11/00;F26B11/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平;杨松龄 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在使用在转子上装备的多个保持构件保持基板W的周边、使用转子转动和处理基板W的基板处理装置中，在上述保持构件中的任何一个上设置给基板W的周边施加挤压力的挤压装置130，在上述各挤压装置130上装备抵接基板W的周边的抵接部分160、使上述抵接部分160在抵接基板W的周边的位置和离开基板W的周边的位置之间移动的气缸机构161、和伴随上述抵接部分160的移动弹性变形、把上述气缸机构161从上述基板W周围的大气隔离的变形部分162。因此，可以提供膜片上不发生过大变形的基板处理装置及基板处理方法。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，它装备有具有保持基板周边的保持构件的转子，使用该转子转动处理上述基板，其特征在于，上述保持构件中的任何一个上具有给上述基板的周边施加挤压力的挤压装置，上述挤压装置具有抵接基板周边的抵接部分并使该抵接部分与上述基板周边弹性抵接或者离开上述基板周边。
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