[发明专利]晶片处理炉每小时晶片处理量参数监控系统和监控方法有效
| 申请号： | 03142879.7 | 申请日： | 2003-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN1566418A | 公开（公告）日： | 2005-01-19 |
| 发明（设计）人： | 张世昌;王兴仁;邱泉桦;张杰钧;郭培伟 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/02 | 分类号： | C30B33/02;H01L21/324;H01L21/477 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种晶片处理炉每小时晶片处理量监控系统，其包括一数据库、一分析装置、一比对装置和一输出装置。数据库包括晶片处理炉的两个或更多个处理历史记录。分析装置连接到数据库。分析装置包括逻辑元件，此逻辑元件会检索数据库中至少一处理历史记录，且确定所检索处理历史记录的标准处理时间和规范值域，并且接收当前处理过程的当前处理时间。而连接到分析装置的比对装置包括逻辑元件，此逻辑元件会将标准处理时间和规范值域与当前处理时间相比对。另外，连接到比对装置的输出装置包括逻辑元件，此逻辑元件会输出比对结果。本发明还提供了一种晶片处理炉每小时晶片处理量参数监控方法。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 处理 每小时 参数 监控 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种晶片处理炉每小时晶片处理量参数监控系统，其特征是，该系统包括：一数据库，该数据库包括两个或两个以上晶片处理炉处理历史记录；一分析装置，其连接到数据库，该分析装置包括：一检索逻辑元件，其检索该数据库中至少一处理历史记录；一确定逻辑元件，其确定所检索至少一处理历史记录的标准处理时间和规范值域；以及一接收逻辑元件，其接收当前处理过程的当前处理时间；一比对装置，其连接到该分析装置，且该比对装置包括将一标准处理时间和一规范值域与一当前处理时间相比对的一逻辑元件；以及一输出装置，该输出装置连接到该比对装置且包括用于输出一比对结果的一逻辑元件。
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