[发明专利]扩散反射板、其制造方法以及邻近曝光方法有效
| 申请号： | 03142916.5 | 申请日： | 2003-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN1480746A | 公开（公告）日： | 2004-03-10 |
| 发明（设计）人： | 藤井幸男;佐藤行一 | 申请（专利权）人： | 彩辉科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 包于俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在该制造方法中，在基板1的表面上涂覆光致抗蚀膜，在光致抗蚀膜2上通过光掩模7施以邻近曝光，然后进行显象处理，由此使光致抗蚀膜2形成图案，然后，进行热处理的工序，和在热处理过的光致抗蚀膜2上形成反射膜3的工序，在给定条件下实施邻近曝光。这时，可以制造高散射强度的扩散反射板。在该制造方法中，采用内侧形成扩散反射区域形成用图案A、外侧形成透明图案B的光掩模7，在基板1的表面上涂覆混入了相对于感光波长区域具有吸光性的吸光性材料的正型光致抗蚀膜，然后进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 扩散 反射 制造 方法 以及 邻近 曝光 | ||
【主权项】：
1、一种扩散反射板的制造方法，其特征在于在具备将反射型液晶显示器所使用的扩散反射板中的光致抗蚀膜进行邻近曝光后，进行显象，接着进行热处理，然后，在其上形成反射膜的工序的扩散反射板的制造方法中，在显象时除去上述光致抗蚀膜的周边部分时，在上述光致抗蚀膜的中央部分，设定邻近曝光条件，以不形成与上述光掩模的透过部分对应的贯通孔。
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