[发明专利]显微透镜阵列的制造方法无效
| 申请号： | 03143839.3 | 申请日： | 2003-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN1517723A | 公开（公告）日： | 2004-08-04 |
| 发明（设计）人： | 李明馥;孙镇升;赵恩亨;朴宁弼 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/08 | 分类号： | G02B3/08;G03F1/00;B29D11/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种显微透镜阵列的制造方法。该方法包括使用光刻工艺在衬底的一面形成一圆柱形光刻胶掩模；应用回流工艺熔化光刻胶掩模，使其具有与显微透镜相对应的轮廓；使用等离子刻蚀将光刻胶掩模的轮廓传递到衬底上，在衬底上形成显微透镜；在显微透镜的表面上形成一光刻胶，其具有用来改进显微透镜的曲面的表面轮廓；以及通过等离子刻蚀方法刻蚀光刻胶，将光刻胶的弯曲轮廓传递到显微透镜的表面。通过这样的方法，可制造具有精确曲面、高数值孔径(NA)和低像差的高性能显微透镜。 | ||
| 搜索关键词： | 显微 透镜 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显微透镜阵列的制造方法，包括：应用光刻工艺在衬底的一面形成一圆柱形光刻胶掩模；应用回流工艺熔化该光刻胶掩模，使该光刻胶掩模具有与显微透镜相对应的轮廓；应用等离子刻蚀方法将该光刻胶掩模的轮廓传递到该衬底上，在该衬底上形成显微透镜；在显微透镜表面上形成一光刻胶，其具有一用来改进显微透镜的曲面的表面轮廓；和通过使用等离子刻蚀方法刻蚀该光刻胶，将该光刻胶的弯曲轮廓传递到显微透镜的表面。
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