[发明专利]光刻装置和器件的制造方法有效
| 申请号： | 03143858.X | 申请日： | 2003-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN1475863A | 公开（公告）日： | 2004-02-18 |
| 发明（设计）人： | P·M·M·利布雷茨;A·J·布莱克尔;E·R·罗普斯特拉;H·波尔格雷弗 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置，应用从计算机10发出的控制信号来驱动两个空间光调节器11，12，为投射在两个基底19，20上的两个独立的投射光束13，14构图。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置，包括：-用于提供第一辐射投射光束的辐射系统；-用于根据所需图案对第一投射光束构图的程控构图部件；-用于保持第一基底的第一基底台；-用于把第一带图案的光束投射到第一基底的靶部上的第一投射系统；-用于提供控制信号以根据所述需图案设定第一程控构图部件的控制系统；其特征在于：-第二程控构图部件，用于根据所述所需图案对第二辐射投射光束构图；-第二基底台，用于保持第二基底；以及-第二投射系统，用于把所述第二带图案的光束投射到第二基底的靶部上；其中所述控制系统还提供所述控制信号以根据所述所需图案来设定所述第二程控构图部件。
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