[发明专利]密接型曝光装置无效
| 申请号： | 03145204.3 | 申请日： | 2003-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN1470940A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | 田岛恒宗;籾井勋 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 谢喜堂 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种光罩与基板的密接性高的密接型曝光装置。其在结束位置对准等预定处理后，由控制装置(99)控制移动机构(21)，使平台(20)朝上方移动，由此使光罩(1)与基板(2)接近，并停在由密封件(4)形成在两者间的一密闭空间的位置，同时由控制装置(99)控制吸引泵(51)而开始吸引。通过该吸引泵的吸引，光罩(1)与基板(2)之间的空间即形成负压状态，光罩(1)即朝下方挠曲而使中央部凸出，并使此中央部接触于基板(2)。继而由控制装置(99)控制凸轮驱动机构(31)，并在吸引动作的同时使凸轮(30)转动，使光罩(1)从中央部到周边部逐渐与基板(2)接触，并在此过程中从中央部朝向周边部慢慢挤出空气，同时使光罩(1)密接于基板(2)。 | ||
| 搜索关键词： | 密接型 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种密接型曝光装置，其特征在于具有：描绘有要曝光的图案、且接触于曝光对象物而接受曝光的光罩；使前述光罩与曝光对象物相对接近成可密接状态的装置；将光罩保持在前述光罩与曝光对象物部分接触的第1位置、及前述光罩与曝光对象物完全接触的第2位置的保持装置；用以密封前述光罩与被曝光对象物之间的装置；以及用以吸引前述光罩与被曝光对象物之间的装置。
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