[发明专利]多层电路板的形成方法及多层电路板无效

专利信息
申请号: 03145809.2 申请日: 2003-07-07
公开(公告)号: CN1496216A 公开(公告)日: 2004-05-12
发明(设计)人: 西川和宏;冢原法人;大谷博之 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 李家麟
地址: 日本国大*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种多层电路板和形成这多层电路板的方法。在第一电路形成过程中(P1p),第一电路(12a)是用导体(12a)在绝缘板(11a)上形成的;在电路嵌入过程中(P2p),第一电路(12a)被嵌入绝缘板(11a)以致具有预定表面平坦度(S)和预定平行度(P);在制作掩膜过程中(P4p),把用于通路孔(4,4a)的定位孔(15,20)在电路(12a)上制作掩膜;在绝缘层形成过程中(P5p),除了掩膜(14)之外,把绝缘材料(11b)作为一层施加到该表面;在绝缘材料层整平过程中,绝缘材料层(11b)表成被整平,以致具有预定的表面平坦度(S)和预定的平行度(P),以及在定位孔形成过程中,除去掩膜(14)。
搜索关键词: 多层 电路板 形成 方法
【主权项】:
1.一种形成多层电路板的方法,其特征在于,包括:形成第一电路的第一电路形成过程,所述第一电路是在由绝缘材料制成的平坦绝缘板第一平坦表面上按预定的图案由导体制成的。该绝缘板还具有近似地与第一平坦表面平行的第二平坦表面;把第一电路嵌入第一绝缘板的第一电路嵌入过程,使得第一表面和第一电路具有预定的表面平坦度(S),且第一表面具有相对于第二平坦表面的预定平行度(P);在已嵌入的第一电路的部分表面上形成用于为通路孔形成定位孔掩膜的制作掩膜过程;通过把绝缘材料作为一层敷设到第一平坦表面的形成绝缘材料层的绝缘层形成过程,所述第一平坦,除设置掩膜的部分表面外,具有形成在其上的掩膜,整平绝缘材料层表面的绝缘材料层整平过程,使得绝缘材料层表面具有表面平坦度(S)和相对于第二平坦表面的平行度(P);以及在绝缘材料层被整平的情况下,通过从第一电路除去掩膜来形成定位孔的定位孔形成过程。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03145809.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top