[发明专利]薄膜磁头、其制造方法和带使用薄膜磁头的滑动器的磁盘装置无效
申请号: | 03145858.0 | 申请日: | 2003-07-11 |
公开(公告)号: | CN1490789A | 公开(公告)日: | 2004-04-21 |
发明(设计)人: | 中山正俊 | 申请(专利权)人: | TDK股份有限公司 |
主分类号: | G11B5/39 | 分类号: | G11B5/39 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 李家麟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 通过提供具有小于等于40的厚度的保护膜提供抗耐腐蚀性高、用于大容量记录媒介的磁阻薄膜磁头。由于磁头和媒介之间的间距明显降低,薄膜适于具有高存储密度的记录媒介。提供了磁阻型薄膜磁头,其中由具有如下通式表示的成分的类金刚石薄膜并且厚度小于等于40的保护膜:CHaObNcFdBePf(其中a=0-0.7,b=0-1,c=0-1,d=0-1,e=0-1及f=0-1,以原子比计),至少形成于接触记录媒介的磁头表面。还提供了其制造的方法,和使用薄膜磁头的磁头装置。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 磁头 制造 方法 使用 滑动 磁盘 装置 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜磁头,它具有含磁阻元件的MR磁头部分其特征在于,至少在朝向记录媒介的所述MR磁头部分的表面上形成有其组成由以下通式表示的保护膜:CHaObNcFdBePf 其中a=0-0.7,b=0-1,c=0-1,d=0-1,e=0-1及f=0-1,以原子比计,并且厚度等于或小于40。
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