[发明专利]用PLD法制备具有室温正巨磁阻效应的镍碳薄膜材料无效

专利信息
申请号: 03146161.1 申请日: 2003-07-25
公开(公告)号: CN1487115A 公开(公告)日: 2004-04-07
发明(设计)人: 章晓中;薛庆忠;田鹏 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/24;H01L43/08;H01L43/10;H01L43/12
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人: 李光松
地址: 100084北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了属于磁学量传感器材料的一种用PLD法制备具有室温正巨磁阻效应的镍碳薄膜材料。是在Si(100)基片上,用不同比例的Ni-C复合冷压靶材,在3-5Pa氩气条件下,利用PLD方法在一定温度下沉积得Ni-C薄膜。在同样制备条件下,不同靶材成分,其薄膜厚度不同,薄膜厚度约为:30-120nm。该材料在温度为300K、外加磁场为1T的条件下的正磁阻效应可高达13%,此后,随外加磁场的增加而近似线形增加。Ni-C材料价格低廉,性能优越,是一种很好的磁传感器材料。
搜索关键词: pld 法制 具有 室温 磁阻 效应 薄膜 材料
【主权项】:
1.一种用PLD法制备具有室温正巨磁阻效应的镍碳薄膜材料,其特征在于:所述Ni-C薄膜是由C和Ni构成的磁阻材料,其Ni体积比含量为1-40%。
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