[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 03147209.5 | 申请日： | 2003-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN1470944A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | R·库尔特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 光刻投射装置的多光学层光学元件，其中至少一个光学层包含Mo和Cr合金。该层可以形成Mo/Si层系统的最外层，可选择地带有Ru外保护层。此外，多光学层光学元件可以包含多个置于Mo/Cr合金层之间的层。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投射系统；其特征在于：投射光束入射到其上的至少一个光学元件具有至少一个包括Mo和Cr合金的光学层。
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