[发明专利]用于有机电致发光装置的薄层真空蒸发的掩模框组件有效
| 申请号： | 03147213.3 | 申请日： | 2003-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN1471341A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | 姜敞皓;金兑承 | 申请（专利权）人： | 三星日本电气移动显示株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;C23C14/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军;黄力行 |
| 地址： | 韩国蔚*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种用于有机电致发光装置的薄层真空蒸发的掩模框组件，所述掩模框组件能减小因掩模图案尺寸增大所致的蒸发图案中的扭曲，便于蒸发图案的总间距的调节，和防止在不理想的位置发生蒸发。掩模框组件包括具有开口的框和由至少两个单位掩模元件组成的掩模。每个单位掩模元件的两端都固定到框上。单位掩模元件包括单位掩模图案，并在预定的宽度上彼此重叠，形成单个的掩模图案块。每个单位掩模元件在重叠部分中有凹陷的壁，从而使掩模的厚度在单位掩模元件之间的重叠处保持恒定。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 有机 电致发光 装置 薄层 真空 蒸发 掩模框 组件 | ||
【主权项】：
1.一种用于有机电致发光装置的薄层真空蒸发的掩模框组件，该掩模框组件包含：框，其有开口；和掩模，由至少两个其两端都固定到该框上的单位掩模元件组成，单位掩模元件包括单位掩模图案，并在预定的宽度上相互重叠，以便形成单个掩模图案块，每个单位掩模元件在重叠部分中有凹陷的壁，使得掩模的厚度在单位掩模元件之间的重叠处保持恒定。
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