[发明专利]垂直磁记录介质无效
申请号: | 03147267.2 | 申请日: | 2003-07-11 |
公开(公告)号: | CN1472729A | 公开(公告)日: | 2004-02-04 |
发明(设计)人: | 李丙圭;吴薰翔 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G11B5/66 | 分类号: | G11B5/66 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 范明娥;巫肖南 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种垂直磁记录介质,其中,将垂直磁记录层设置在基质上,而将软磁层设置在基质和垂直磁记录层之间。在垂直磁记录介质中,将软磁定向层设置在软磁层和基质之间,以在磁性上对软磁层定向。因此,虽然软磁层很薄,它仍具有稳定的磁特性,并产生较小的噪音。 | ||
搜索关键词: | 垂直 记录 介质 | ||
【主权项】:
1.一种垂直磁记录介质,其中,垂直磁记录层设置在基质上,而软磁层设置在基质和垂直磁记录层之间,垂直磁记录介质包括:将软磁定向层放在软磁层和基质之间,以对软磁层在磁性上和晶体学上进行定向。
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