[发明专利]化学放大刻蚀剂材料和使用它的图案化方法有效
| 申请号： | 03147412.8 | 申请日： | 2003-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN1470946A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | 今纯一;野崎耕司;矢野映 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季灶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种包含基础树脂和在图案化曝光波长上具有敏感性的光酸生成剂的化学放大刻蚀剂材料；其中，所述化学放大刻蚀剂材料进一步包含通过图案化曝光之外的处理而产生酸或自由基的活化剂。还公开了一种使用它的图案化方法。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 放大 刻蚀 材料 使用 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.包含基础树脂和在图案化曝光波长上具有敏感性的光酸生成剂的化学放大刻蚀剂材料；其中，所述化学放大刻蚀剂材料进一步包含通过图案化曝光之外的处理而产生酸或自由基的活化剂。
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