[发明专利]光干涉式显示单元的制造方法无效
| 申请号： | 03148072.1 | 申请日： | 2003-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1567079A | 公开（公告）日： | 2005-01-19 |
| 发明（设计）人： | 林文坚;蔡熊光 | 申请（专利权）人： | 元太科技工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/21 | 分类号： | G02F1/21;G09F9/00;G03F7/36 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种光干涉式显示单元的制造方法，该制造方法适用于一透明基材之上，在基材上依序形成第一电极及牺牲层。在第一电极及牺牲层内形成至少二开口并定义出光干涉式显示单元的位置，接着在开口之内形成一耐热绝缘无机支撑物，在该牺牲层及该支撑物上再形成第二电极，最后，以一远端等离子蚀刻制造工艺移除牺牲层。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉 显示 单元 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光干涉式显示单元的制造方法，适用于一基材之上，其特征在于：该方法主要包括：在基材之上形成一第一电极；在上述第一电极之上形成一牺牲层；在上述牺牲层及第一电极内形成至少二开口并定义出该光干涉式显示单元的位置；在上述开口内形成一耐热绝缘无机支撑物；在上述牺牲层及耐热绝缘无机支撑物之上形成一第二电极；以及以一远端等离子蚀刻制造工艺移除牺牲层。
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