[发明专利]光刻技术中的漩涡相移掩模有效
| 申请号： | 03148353.4 | 申请日： | 2003-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1470942A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | 马克·戴维·利文森 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社;马克·戴维·利文森 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 刘晓峰 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光刻方法和装置，该光刻方法和装置用来产生对应相移掩模中的点的光强最小值。掩模产生的光的相移以螺旋的方式围绕所述点变化，以致沿向下经过所述掩模表面的线测量的相移在所述点处有180°跳变，其中所述线通过所述点，围绕所述点穿过的线在130°和230°之间没有跳变，优选在100°和260°之间没有跳变。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 技术 中的 漩涡 相移 | ||
【主权项】：
1.一种装置，包括：具有表面和表面图案的相移掩模(PSM)衬底，所述表面与波长为λ、强度为I0的光相互作用，以改变在由所述表面图案所确定的图案中的所述光的相位，其中与所述表面相互作用后的所述光的强度至少部分由所述表面图案引起的相变确定，及其中当所述光穿过具有数值孔径(N.A.)的光刻系统的透镜以便使所述表面成像在象平面上时，成像在所述象平面上的所述光的强度具有多个点图象，环形区域围绕的具有强度最低点Imin的每个点图象的强度远远大于围绕所述强度最低点的整个环形区域中的Imin，及其中所述强度最小值的全宽小于λ/2N.A.。
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