[发明专利]光间隔壁的制造方法有效
申请号: | 03148471.9 | 申请日: | 2003-06-30 |
公开(公告)号: | CN1567068A | 公开(公告)日: | 2005-01-19 |
发明(设计)人: | 张业成 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/136;G03F7/00;H01L29/786 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李晓舒;魏晓刚 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种光间隔壁的制造方法,首先,提供玻璃衬底。形成薄膜晶体管、数据线及扫描线于玻璃衬底上,数据线与扫描线交迭于交错区,薄膜晶体管具有一源极和一漏极。形成光致抗蚀剂层于薄膜晶体管、数据线、扫描线及交错区之上。使用一半色调(half-tone)掩模构图光致抗蚀剂层,以同时形成光间隔壁、绝缘层及接触孔。绝缘层形成于薄膜晶体管、数据线、扫描线及交错区之上,光间隔壁形成于对应至数据线、扫描线及交错区的绝缘层上。接触孔形成于绝缘层中,用来暴露该源极或该漏极。 | ||
搜索关键词: | 间隔 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光间隔壁的制造方法,包括:提供一玻璃衬底;形成至少一薄膜晶体管、一数据线及一扫描线于该玻璃衬底上,该数据线与该扫描线交迭于一交错区,该薄膜晶体管具有一源极和一漏极;形成一光致抗蚀剂层于该薄膜晶体管、该数据线、该扫描线及该交错区之上;以及使用一半色调掩模构图该光致抗蚀剂层,以形成至少一光间隔壁、一绝缘层及一第一接触孔,其中,该绝缘层形成于该薄膜晶体管、该数据线、该扫描线及该交错区之上,该光间隔壁形成于对应至该数据线、该扫描线及该交错区的该绝缘层上,该第一接触孔形成于该绝缘层中,用来暴露该源极或该漏极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03148471.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。