[发明专利]铂化学机械抛光用的溶液无效
| 申请号： | 03148693.2 | 申请日： | 2003-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN1475604A | 公开（公告）日： | 2004-02-18 |
| 发明（设计）人： | 李宇镇 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/40 | 分类号： | C23F1/40;C23F3/04;C09K3/14;H01L21/28;H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明是揭示一种铂化学机械抛光用的溶液。再者，本发明是揭示一种形成Pt图样的方法，其是利用所揭示的Pt－CMP溶液，此溶液含有碱水溶液与氧化剂，其是改良Pt的抛光速率与抛光特性，该Pt是形成金属电容器的下方的电极。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 溶液 | ||
【主权项】：
1.一种铂用的化学机械抛光(CMP)溶液，其包含：碱水溶液；与氧化剂。
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