[发明专利]硬化的纳米压印印模

摘要

公开了一种硬化纳米压印印模10及形成硬化纳米压印印模10的方法。硬化纳米压印印模10包括多个具有碳化硅、氮化硅或氮碳化硅硬化外壳20的硅基纳米尺寸部件12。通过等离子体碳化和/或等离子体氮化工艺可使硬化外壳20比位于其下的硅更坚硬。在等离子体处理过程中，碳C和/或氮N原子轰击并渗透纳米尺寸部件12的多个暴露表面(12e、12s、12t、12b、12f、13)中，并与硅(Si)发生化学反应形成碳化硅、氮化硅或氮碳化硅硬化外壳20。最终获得的硬化纳米压印印模10的寿命、耐久性、经济和精度都有所提高。

主权项

1.一种硬化纳米压印印模10，包含：包含基面13的衬底11；与衬底11相连并向基面13外部延伸的多个纳米尺寸部件12，纳米尺寸部件12包括确定压印轮廓的外表面，并且纳米尺寸部件12由选自硅和多晶硅构成的组的一种材料构成；且硬化外壳20从外表面向内延伸预定深度d，硬化外壳20由选自碳化硅、氮化硅和氮碳化硅构成的组的一种材料构成，且硬化外壳20可以在纳米压印印模10与将被压印的介质53反复啮合后保持纳米尺寸部件12的压印轮廓。