[发明专利]正型光致抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案的形成方法无效
| 申请号： | 03148995.8 | 申请日： | 2003-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN1469197A | 公开（公告）日： | 2004-01-21 |
| 发明（设计）人： | 久保敦子;大内康秀;宫城贤 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/022 | 分类号： | G03F7/022;H01L21/027;G02F1/133 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种适用于系统液晶显示器(LCD)的制造且线性优异并可以形成微细抗蚀剂图案的材料以及使用此材料的抗蚀剂图案形成方法。本发明正型光致抗蚀剂组合物用于制造1块基板上形成集成电路和液晶显示元件部分的基板，其特征在于含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化合物、(C)特定结构的含酚性羟基的化合物以及(D)有机溶剂。本发明的抗蚀剂图案形成方法的特征在于，包括：用该正型抗蚀剂组合物在基板上形成抗蚀剂涂膜的工序、用画有用于形成集成电路用抗蚀剂图案的掩膜图案和用于形成液晶显示部分用抗蚀剂图案的掩膜图案的掩膜，进行选择性曝光，同时形成集成电路用抗蚀剂图案和液晶显示部分用抗蚀剂图案的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 正型光致抗蚀剂 组合 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种正型光致抗蚀剂组合物，用于制造在1块基板上形成集成电路和液晶显示部分的基板，其特征在于含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化合物、(C)以下述通式(I)表示的含酚性羟基的化合物![]()
以及(D)有机溶剂。
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