[发明专利]光记录介质以及管理光记录介质缺陷区的方法有效

专利信息
申请号: 03149002.6 申请日: 1999-07-15
公开(公告)号: CN1532835A 公开(公告)日: 2004-09-29
发明(设计)人: 李明九;朴容澈;郑圭和;申种仁 申请(专利权)人: LG电子株式会社
主分类号: G11B20/10 分类号: G11B20/10;G11B20/18;G11B7/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 陆弋;顾红霞
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及光记录介质和光记录介质记录/回放装置与方法,用于管理可重写光记录介质中的缺陷区。具体地说,本发明把线性替代控制(LRC)位增加到次要缺陷列表(SDL)项中以区分根据线性替代算法列在SDL项的缺陷块信息和根据跳过算法列在SDL项的缺陷块信息,从而允许光记录介质记录/回放装置把正确的信息传送到主机。而且,当在备用区充满时在记录或回放数据时发现要求新的替代块的缺陷块时,不执行线性替代,LRC位与缺陷块的位置信息一起被设置在SDL项中以表示在备用区充满时得到相应的SDL项,从而以后再写入和再现数据时数据不被写入缺陷块或不读出缺陷块的数据。因此,本发明有效提高了对盘片的管理效率。
搜索关键词: 记录 介质 以及 理光 缺陷 方法
【主权项】:
1.一种管理光记录介质缺陷区的方法,所述光记录介质包括:缺陷管理区、用于替换缺陷块的备用区和用以写入的数据区,所述方法包括:(a)检测备用区是否已满;和(b)根据步骤(a)的结果,管理将被发现的缺陷块,其中,如果所述备用区已满,则所述缺陷块不被替换为备用区的替换块,(c)将所述缺陷块的位置信息和指示缺陷块不被替换为替换块的指示信息记录在缺陷管理区的缺陷管理信息中。
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