[发明专利]化学气相沉积处理装置无效
申请号: | 03149150.2 | 申请日: | 2003-05-23 |
公开(公告)号: | CN1572901A | 公开(公告)日: | 2005-02-02 |
发明(设计)人: | 格雷戈尔·阿诺尔德;斯特凡·贝勒;安德烈亚斯·吕特林豪斯-亨克尔;马蒂亚斯·比克尔 | 申请(专利权)人: | 肖特·格拉斯公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 郑修哲 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 为了方便地将工件放入和移出反应器以使得它们在那里进行化学气相沉积处理,本发明提供一种工件的化学气相沉积处理装置,它包括传送装置和固定到传送装置的至少一个反应器,该处理装置具有至少一个机械控制凸轮并且该反应器具有由至少一个控制凸轮驱动的打开和关闭装置。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 处理 装置 | ||
【主权项】:
1.一种工件化学气相沉积处理装置,包括传送装置和至少一个固定到传送装置的反应器,其中该处理装置具有至少一个机械控制凸轮,和反应器具有由至少一个控制凸轮驱动的打开和关闭装置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的