[发明专利]从氧化产物中除去杂质的方法无效
| 申请号： | 03149181.2 | 申请日： | 2003-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN1470491A | 公开（公告）日： | 2004-01-28 |
| 发明（设计）人： | R·E·科尔波恩;F·F·库里 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C07C51/48 | 分类号： | C07C51/48;C07C51/265;C07C63/16;C07C63/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周慧敏;马崇德 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种从得自邻二烷基芳族化合物氧化的产物中除去杂质的方法，其包括至少一个选自以下的步骤：用有机溶剂萃取含有芳族二羧酸产物的水溶液和用碳酸氢盐水溶液以不足以使酸酐水解成酸的时间萃取含有芳族酸酐产物的有机溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 产物 除去 杂质 方法 | ||
【主权项】：
1.一种从得自邻二烷基芳族化合物氧化的产物中除去杂质的方法，其包括至少一个选自以下的步骤：用有机溶剂萃取含有芳族二羧酸产物的水溶液和用碳酸氢盐水溶液以不足以使酸酐水解成酸的时间萃取含有芳族酸酐产物的有机溶剂。
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