[发明专利]具有GaN基多量子阱结构的发光二极管无效
申请号: | 03149187.1 | 申请日: | 2003-06-20 |
公开(公告)号: | CN1567607A | 公开(公告)日: | 2005-01-19 |
发明(设计)人: | 陈弘;周均铭;李东升;于洪波;贾海强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 楼仙英 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有GaN基多量子阱结构的发光二极管。该发光二极管的特征在于:量子阱(22)由不掺杂的势垒层(23)和不掺杂的势阱层(24)组成,且势阱层的带隙小于势垒层的带隙;量子阱(22)的数目N为1~100;所述的势阱层(24)为梯形;在n型掺杂的AlGaN层(20)与N个量子阱(22)之间、N个量子阱(22)之间与p型掺杂的AlGaN层(21)之间还分别有GaN隔离层(14-1)、GaN隔离层(14-2)。该发光二极管的多量子阱区可以与p-n结重合,使电子与空穴主要在量子阱中通过带边辐射复合发光,可以提高发光二极管的发光效率;梯形量子阱的结构使电子和空穴在空间上能更好的重合在一起,可以提高电子和空穴辐射复合几率;对生长设备和工艺条件无特殊要求。 | ||
搜索关键词: | 具有 gan 基多 量子 结构 发光二极管 | ||
【主权项】:
1、一种具有GaN基多量子阱结构的发光二极管,包括在衬底10上,以常规技术依次生长缓冲层11、n型掺杂的GaN层12、n型掺杂的GaN层13、n型掺杂的AlGaN层20、N个量子阱22、p型掺杂的AlGaN层21、p型掺杂的GaN层15,透明电极16、以及p型欧姆接触17,在n型掺杂的GaN层13上经常规光刻技术制作n型欧姆接触18;其特征在于:所述的量子阱22由不掺杂的势垒层23和在其上不掺杂的势阱层24组成,且势阱层的带隙小于势垒层的带隙;量子阱22的数目N为1~100;所述的势阱层24为梯形;还包括在n型掺杂的AlGaN层20与N个量子阱22之间、N个量子阱22之间与p型掺杂的AlGaN层21之间还分别有GaN隔离层14-1、GaN隔离层14-2。
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