[发明专利]一种纳米级超细钨粉的制备方法无效

专利信息
申请号: 03150230.X 申请日: 2003-07-22
公开(公告)号: CN1480282A 公开(公告)日: 2004-03-10
发明(设计)人: 吴成义;张丽英 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: B22F9/22 分类号: B22F9/22;B22F9/08
代理公司: 北京科大华谊专利代理事务所 代理人: 刘月娥
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了提供了一种纳米级超细钨粉的制备方法,采用低温超声喷雾热转换法制备的纳米级WO3氧化物粉末为原料,用H2气按两阶段还原,第一阶段还原温度为380~500℃、保温30~60分钟;先制成纳米(WO2.9)蓝钨粉末。第二段H2还原,温度为700~780℃、保温40~60分钟、制备成纳米超细W粉末。经高速剪切粉碎机破碎的料浆过43μm筛,并转入真空烘干机内。料浆在真空下脱出酒精,然后在烘干机夹层内通入90±10℃蒸气将钨粉振动烘干,待冷却后出料,即得到平均粒径≤80nm的纳米钨粉。本发明的优点在于:粉末颗粒形貌为近球形,经过剪切破碎的钨粉,其松装比重可由0.5~0.7g/cm3,增加到1.4~1.7g/cm3。适用于纳米级钨粉的工业化生产。
搜索关键词: 一种 纳米 级超细钨粉 制备 方法
【主权项】:
1、一种纳米级超细钨粉的制备方法,所使用的WO3粉末是采用低温60~120℃气流超声喷雾热转法制取的纳米级超细氧化物粉末,其特征在于:a、还原:采用低温超声喷雾热转法制备的纳米级超细WO3粉末为原料,用H2气两阶段还原,第一阶段还原温度为380~500℃、保温30~60分钟;先制成纳米级超细蓝钨(WO2.9)粉末;中间经剪切破碎、真空干燥工序,然后进行第二阶段还原,温度为700~780℃、保温40~60分钟,再进行第二次剪切破碎,以消除“桥接”团粒,还原设备采用管式还原炉,制备成纳米级超细W粉;还原的化学反应式如下:第一段还原:第二段还原; b、高速剪切粉碎:在第一阶段还原后将纳米超细蓝钨粉末或第二次还原后的纳米超细W粉末分别配以无水酒精,在高速剪切粉碎机中进行破碎处理,剪切破碎速度为8000~30000转/分,粉碎时间为30-90分钟;经高速剪切粉碎机破碎的料浆均过43μm筛,并转入真空振动烘干机内干燥;c、真空振动烘干在47HZ/S低频振动下,在烘干机夹层内通入90±10℃蒸气并在真空下排除了酒精、将酒精冷凝回收,将蓝钨粉末或钨粉末快速烘干,待冷却后出料,制得平均径粒≤80nm的金属钨粉末。
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