[发明专利]可阻断寄生损失电流的高功率射频集成电路及其制造方法无效

专利信息
申请号: 03150711.5 申请日: 2003-09-01
公开(公告)号: CN1591865A 公开(公告)日: 2005-03-09
发明(设计)人: 高荣正;林大野 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L21/822
代理公司: 上海光华专利事务所 代理人: 余明伟
地址: 201203上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种可阻断寄生损失电流的高功率射频集成电路及其制造方法,其是在高功率射频组件完成包括电感组件在内的半导体基底正面制程步骤后,基底背面须经过研磨处理至一定厚度,之后可进行背面沟渠式接触窗的显影蚀刻步骤,并进行一背面氧化绝缘层的沉积,使此氧化绝缘层配置在基底中且正位于电感组件下方,以阻断电感组件在该基底中因电磁感应产生的损失寄生电流,并改进电感组件在高频操作下的效能。
搜索关键词: 阻断 寄生 损失 电流 功率 射频 集成电路 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种可阻断寄生损失电流的高功率射频集成电路,其特征在于,其结构包括:一半导体基底,其上具有一主动区域及一隔离区域;复数个主动组件,其配置在该半导体基底的主动区域内;复数个隔离结构,其设置在该隔离区域内,且用以隔离所述主动组件;至少一介电层,其位于该半导体基底上,使其覆盖在该主动组件及该隔离结构上,以绝缘其上和其下的组件;数个电感组件,其形成于该隔离结构上方的该介电层表面;及一沟渠式绝缘层,其配置在该电感组件下方的所述半导体基底中,使该沟渠式绝缘层直接连接该隔离结构。
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