[发明专利]多波长可擦重写光存储材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 03150829.4 申请日: 2003-09-05
公开(公告)号: CN1523592A 公开(公告)日: 2004-08-25
发明(设计)人: 黄伍桥;吴宜群;顾冬红;干福熹 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/16;C09K9/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种多波长可擦重写光存储材料及其制备方法,该材料为铜-四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物;本发明的高溶解性能的铜-四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物是将CuI加入到含四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物和金属碘化物(MI)的乙腈溶液中,在常温至85℃温度范围内,搅拌反应1~4小时即可得铜-四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物;把铜-四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物溶于二甲氨基乙醇或乙腈中,用超声波振荡后,过滤,把过滤后的均匀溶液旋涂到所用的基片上,即得到适合于514.5nm、650nm、或780nm可擦重写光信息存储薄膜。
搜索关键词: 波长 重写 存储 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种多波长可擦重写光存储材料,其特征在于该材料为铜-四氰基对苯醌二甲烷脂类衍生物,其分子式为Cu(TCNQ(CH2CH2COOR)2)。
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