[发明专利]半导体模块及制造半导体模块的方法有效

专利信息
申请号: 03152365.X 申请日: 2003-07-30
公开(公告)号: CN1477688A 公开(公告)日: 2004-02-25
发明(设计)人: 格尔德·弗兰科夫斯克基;哈丽·黑德勒;芭芭拉·瓦斯克斯 申请(专利权)人: 印芬龙科技股份有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/60;H01L25/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 龚海军
地址: 联邦德*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明提供一种用于制造半导体电路模块(31)的方法,该方法包括如下步骤:将具有图形的连接层(11)加到转移衬底(10)上;将具有指向转移衬底(10)的接触区(12’、13’)的有源电路器件(12)和/或无源电路器件(13)加到这个具有图形的连接层(11)上;电路器件(12、13)借助于至少设在电路器件(12、13)之间的填充物(14)相互连接;除去转移衬底(10);并施加电连接器件(16),用于对电路器件(12、13)的接触区(12’、13’)进行选择性的接触连接。本发明还以相似的方式提供一种半导体电路模块。
搜索关键词: 半导体 模块 制造 方法
【主权项】:
1.用于制造半导体电路模块(31)的方法,该方法包括如下步骤:将具有图形的连接层(11)加到转移衬底(10)上;将具有指向转移衬底(10)的接触区(12’、13’)的有源电路器件(12)和/或无源电路器件(13)加到这个具有图形的连接层(11)上;电路器件(12、13)借助于至少设在电路器件(12、13)之间的填充物(14)相互连接;除去转移衬底(10);并施加电连接器件(16),用于对电路器件(12、13)的接触区(12’、13’)进行选择性的接触连接。
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