[发明专利]用于磁阻元件的铁磁层无效
| 申请号： | 03152518.0 | 申请日： | 2003-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN1499520A | 公开（公告）日： | 2004-05-26 |
| 发明（设计）人： | M·沙马;J·H·尼克尔 | 申请（专利权）人： | 惠普开发有限公司 |
| 主分类号： | G11C11/15 | 分类号： | G11C11/15;H01L43/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平;章社杲 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明披露了一种磁阻元件的铁磁层(316)，其包括晶体铁磁子层(316b)和非晶体铁磁子层(316a)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁阻 元件 铁磁层 | ||
【主权项】：
1.一种磁阻器件(310)，包括：被钉轧的铁磁层(316)；检测铁磁层(320)；以及在所述铁磁层(316和320)之间的间隔层(318)；所述被钉轧层(316)包括非晶体子层(316a)和晶体子层(316b)，所述晶体子层(316b)在非晶体子层(316a)和间隔层(318)之间。
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