[发明专利]半导体激光装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 03152677.2 申请日: 2003-08-05
公开(公告)号: CN1481054A 公开(公告)日: 2004-03-10
发明(设计)人: 小野泽和利;上田哲三;上田大助 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01S5/022 分类号: H01S5/022;H01S5/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明着眼于FSA法,是以在混合集成半导体激光元件阵列中,可通过自我调整来控制各半导体激光晶片的发光点间隔为目的的。半导体激光装置(100),包括具有如由硅形成的,在其主面上相互保持一定间隔形成了第1凹槽部分(10a)及第2凹槽部分(10b)的衬底(10)。第1凹槽部分(10a)上,嵌入发射红外光的功能部件化了的第1半导体激光元件(11),第2凹槽部分(10b)上,嵌入发射红色光的功能部件化了的第2半导体激光元件(12)。
搜索关键词: 半导体 激光 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体激光装置,其特征为:包括:在主面上具有复数个凹槽部分的衬底;分别嵌入上述复数个凹槽部分每一个中的复数个半导体激光元件;上述各个半导体激光元件,是让激光从端面射出的端面射出型半导体激光元件;上述各个凹槽部分,形成为使上述各个半导体激光元件的射出方向相互一致的。
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