[发明专利]基于区熔硅单晶的双极光晶体管及其探测方法无效

专利信息
申请号: 03153378.7 申请日: 2003-08-12
公开(公告)号: CN1581517A 公开(公告)日: 2005-02-16
发明(设计)人: 韩德俊 申请(专利权)人: 北京师范大学
主分类号: H01L31/11 分类号: H01L31/11;H01L31/036;H01L27/14;G01J1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100875北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明基于区熔硅单晶的双极光晶体管采用区熔硅单晶片来制作。由于区熔硅单晶的生长不需要坩埚,在制备过程中硅单晶除了与保护气体接触外不与其它任何材料直接接触,因此区熔硅单晶比直拉硅单晶或其它半导体单晶材料有更高的纯度、更少的杂质缺陷。采用区熔硅单晶制作的双极器件,缺陷(包括重金属杂质)少,因而产生复合中心少,少子的寿命长,能够极大地提高双极光晶体管小信号增益特性,提高探测微弱光信号的灵敏度。本发明采用器件背面接受光入射来探测光信号的方法,能够克服正面金属电极的遮光作用以及发射区硅材料的吸光效应,有利于提高双极光晶体管的性能。
搜索关键词: 基于 区熔硅单晶 极光 晶体管 及其 探测 方法
【主权项】:
1、一种新型双极光晶体管,其特征在于:制作该器件的半导体材料为高纯区熔硅单晶片,每个器件由二个pn结组成,所述二个pn结之间夹一导电层,称为基区;所述二个pn结外的导电层分别称为发射区和集电区;基区与发射区、集电区交界处形成发射结和集电结;发射区外侧制有称为发射极的电极、集电区的外侧制有称为集电极的电极,基区外侧可以有称为基极的电极也可以无电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京师范大学,未经北京师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/03153378.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top