[发明专利]基板装置及其制造方法、电光装置以及电子设备有效

专利信息
申请号: 03153680.8 申请日: 2003-08-19
公开(公告)号: CN1484316A 公开(公告)日: 2004-03-24
发明(设计)人: 壹岐拓则;林朋彦 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786;H01L21/84;G02F1/136;G09F9/30
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 李峥;马江立
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在基板上,具备包含半导体层的TFT;与上述半导体层的一部分电气连接的第1电极;与第1电极相对配置的第2电极;由包含被配置在第1电极以及第2电极之间的氮化膜的电介质膜构成的,被形成在上述TFT上的电容器。上述氮化膜,平面地看,具有可以面对上述半导体层的开口部。相对半导体层的氢化,通过使用该开口部,可以有效地进行。
搜索关键词: 装置 及其 制造 方法 电光 以及 电子设备
【主权项】:
1.一种基板装置,其特征在于,具备:被设置在基板上包含半导体层的薄膜晶体管;以及由与上述半导体层的一部分电气连接的第1电极、与该第1电极相对配置的第2电极、和包含被配置在上述第1电极以及上述第2电极之间的氮化膜的电介质膜构成,被形成在上述薄膜晶体管上的电容器;其中,上述氮化膜,具有用于将上述半导体层氢化的开口部。
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