[发明专利]光记录介质无效
| 申请号： | 03153963.7 | 申请日： | 2003-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN1495743A | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | 洞井高志;塚本修司;福泽成敏;有冈博之 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种至少含有衬底和布置在衬底上的记录层的光记录介质。记录层至少包含第一染料(主要组分)和第二染料，该第一染料的最大吸收波长范围为450－600nm，和该第二染料的最大吸收波长范围为600－750nm。调节第二染料在记录层中的含量，使得对于波长655nm的光的记录层衰减系数α，和对于波长670nm的光的记录层衰减系数β可同时满足由如下公式(1)－(3)表示的条件：(1)0.03≤α，(2)0.03≤β，和(3)0.7≤(β/α)≤1.05。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种光记录介质，其至少包括衬底和布置在衬底上的记录层，其中所述记录层至少包含第一染料和第二染料，其中所述第一染料是记录层的主要组分，其最大吸收波长范围为450-600nm，所述第二染料的最大吸收波长为600-750nm，和调节所述第二染料在所述记录层中的含量以同时满足由如下公式(1)-(3)表示的条件：(1)0.03≤α，(2)0.03≤β，和(3)0.7≤(β/α)≤1.05，其中α表示所述记录层对于波长655nm的光的衰减系数，和β表示所述记录层对于波长670nm的光的衰减系数。
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