[发明专利]独石流体喷射装置的制作方法无效
| 申请号： | 03154030.9 | 申请日： | 2003-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN1579642A | 公开（公告）日： | 2005-02-16 |
| 发明（设计）人： | 陈苇霖;胡宏盛;李英尧 | 申请（专利权）人： | 明基电通股份有限公司 |
| 主分类号： | B05B7/02 | 分类号： | B05B7/02;B05B7/16;B41J2/16 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种独石流体喷射装置的制作方法。首先在衬底的第一面上形成图案化牺牲层。接着，形成图案化结构层于衬底上，且覆盖图案化牺牲层。然后，形成图案化电阻层于结构层上，以形成加热器。再形成图案化隔离层，并覆盖结构层，且其具有加热器接触窗和第一开口。形成图案化导电层于结构层上，并经由加热器接触窗与加热器连接，以形成信号传送线路。此后，再形成图案化保护层于衬底上，并覆盖隔离层和导电层，且其具有信号传送线路接触窗和对应于第一开口的第二开口。形成流体通道于衬底的第二面上，以露出牺牲层。接着，移除牺牲层以形成流体腔。最后，沿第二开口和第一开口来刻蚀结构层，从而形成与流体腔连通的喷孔。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 喷射 装置 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种独石流体喷射装置的制作方法，包括以下步骤：提供衬底；形成图案化牺牲层于衬底的第一面上；形成图案化结构层于衬底上，并覆盖图案化牺牲层；形成图案化电阻层于结构层上，以形成加热器；形成图案化隔离层，并覆盖结构层，且其具有加热器接触窗和第一开口，其中加热器接触窗至少露出部分加热器；形成图案化导电层于结构层上，并经由加热器接触窗与加热器连接，以形成信号传送线路；形成图案化保护层于衬底上，并覆盖隔离层和导电层，且其具有信号传送线路接触窗和对应于第一开口的第二开口；形成流体通道于衬底的第二面上，以露出牺牲层，其中第二面与第一面相对；移除牺牲层以形成流体腔；以及沿第二开口和第一开口刻蚀结构层，从而形成与流体腔连通的喷孔。
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