[发明专利]薄膜电阻的形成无效

专利信息
申请号: 03154066.X 申请日: 1999-04-29
公开(公告)号: CN1503276A 公开(公告)日: 2004-06-09
发明(设计)人: A·T·亨特;黄子娟;邵虹;J·托马斯;林文宜;S·S·肖普;H·A·卢藤;J·E·姆克恩泰尔;R·W·卡彭特;S·E·博顿利;M·亨德里克 申请(专利权)人: 莫顿国际股份有限公司;微涂技术股份有限公司
主分类号: H01B1/08 分类号: H01B1/08;H01C7/00;H05K1/16;H05K3/30
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 余颖
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及可以埋入多层印刷线路板中的薄膜电阻,也涉及用来形成这些薄膜电阻的结构和形成这些结构的方法,包括使用燃烧化学气相淀积法。本发明还涉及化学前体溶液,使用该化学前体溶液可以通过燃烧化学气相淀积技术将电阻材料淀积到底材上。
搜索关键词: 薄膜 电阻 形成
【主权项】:
1.一种电阻材料,它包含选自Bi2Ru2O7和SrRuO3的无定形氧化物。
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