[发明专利]正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法无效

专利信息
申请号: 03154301.4 申请日: 2003-08-14
公开(公告)号: CN1484095A 公开(公告)日: 2004-03-24
发明(设计)人: 馆俊聪;中山一彦;土井宏介 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/022
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种正型光致抗蚀剂组合物,是用于制造在1个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD的正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,含有从由(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化物、(C)用上述通式(I)表示的化合物组成的组中选择的至少1种含酚性羟基化合物;及(D)有机溶剂[式中,R1-R6分别独立表示氢原子、卤原子、碳数1-6的烷基、或碳数1-6的烷氧基,R7表示氢原子或碳数1-6的烷基,a和b分别独立表示1-3的整数]。根据本发明,可以提供在NA为0.2以下的适于制造系统LCD的低NA条件下也可以形成2.0微米以下的微细抗蚀图案且具有良好线性的抗蚀材料。
搜索关键词: 正型光致抗蚀剂 组合 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种正型光致抗蚀剂组合物,是用于制造在1个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD的正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,含有从由(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化物、(C)由下记通式(I)表示的化合物组成的组中选择的至少1种含酚性羟基化合物;及(D)有机溶剂,[化1]式中,R1-R6分别独立表示氢原子、卤原子、碳数1-6的烷基、或碳数1-6的烷氧基,R7表示氢原子或碳数1-6的烷基,a和b分别独立表示1-3的整数。
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