[发明专利]正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法无效
| 申请号： | 03154301.4 | 申请日： | 2003-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN1484095A | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | 馆俊聪;中山一彦;土井宏介 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/022 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种正型光致抗蚀剂组合物，是用于制造在1个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD的正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有从由(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化物、(C)用上述通式(I)表示的化合物组成的组中选择的至少1种含酚性羟基化合物；及(D)有机溶剂[式中，R1－R6分别独立表示氢原子、卤原子、碳数1－6的烷基、或碳数1－6的烷氧基，R7表示氢原子或碳数1－6的烷基，a和b分别独立表示1－3的整数]。根据本发明，可以提供在NA为0.2以下的适于制造系统LCD的低NA条件下也可以形成2.0微米以下的微细抗蚀图案且具有良好线性的抗蚀材料。 | ||
| 搜索关键词： | 正型光致抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种正型光致抗蚀剂组合物，是用于制造在1个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD的正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有从由(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化物、(C)由下记通式(I)表示的化合物组成的组中选择的至少1种含酚性羟基化合物；及(D)有机溶剂，[化1]![]()
式中，R1-R6分别独立表示氢原子、卤原子、碳数1-6的烷基、或碳数1-6的烷氧基，R7表示氢原子或碳数1-6的烷基，a和b分别独立表示1-3的整数。
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