[发明专利]剥离剂、及其剥离方法、剥离剂循环设备及剥离剂控制装置有效
| 申请号： | 03154358.8 | 申请日： | 1999-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN1530757A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 朴祯文;吴昌一;白志钦;赵俊衍;李相大 | 申请（专利权）人： | 东进化成工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 当制造半导体器件和液晶显示(LCD)时，从衬底上剥离抗蚀剂的剥离剂，使用剥离剂剥离抗蚀剂的剥离方法，剥离剂循环器件及剥离剂控制装置。剥离剂包括有机胺化合物、质子二醇醚化合物、非质子多极性化合物和烷基吡咯烷酮化合物，在腐蚀工艺期间低温下短时间内可以容易地剥离已经历了化学和/或物理变化的抗蚀剂层，同时几乎不腐蚀下金属线。此外，由于加热期间剥离剂蒸发很少，因此剥离剂的更换周期变长。此外，剥离剂可以容易地通过蒸发和成分补充再生。具有权利要求12所要求保护结构的剥离剂再循环设备可以容易地通过蒸发和成分补充再生废剥离剂。具有权利要求16所要求保护结构的剥离剂控制装置可以自动地控制剥离剂的组分，并自动地将剥离剂提供到剥离设备。 | ||
| 搜索关键词： | 剥离 及其 方法 循环 设备 控制 装置 | ||
【主权项】：
1.一种剥离剂再循环设备，包括：第一蒸馏单元，从废剥离剂中除去水；第二蒸馏单元，接收已从第一蒸馏单元除去水的废剥离剂，并从废剥离剂中除去溶解的抗蚀剂；以及补充单元，向第二蒸馏单元提供的废剥离剂中补充第一成分和第二成分以再生废剥离剂。
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