[发明专利]结晶化状态的原位置监测方法

摘要

本发明提供一种结晶化状态的原位置(in－situ)监测方法及装置，在能量束的照射区域中，对于从熔融变换到固化以及结晶化的位置能够进行监测，而且能将薄膜的结晶化状态，以高时间分辨率地、实时地进行正确监测。本发明结晶化状态的原位置(in－situ)监测方法，用于达成薄膜的结晶化以及结晶化促进的至少一方而进行能量束照射的激光退火处理，其特征在于，在前述能量线照射之前、中间以及之后的至少中间或之后，将用来监视前述薄膜的结晶化状态的监测光，直接地或透过前述衬底，对具有前述薄膜的表面以及背面的至少其中一面的预定面积的区域内的多个监测部位，同时进行照射，并且将来自前述监测光的前述薄膜的前述表面或前述背面的反射光以及透过光的至少一方的光强度的时间变化进行测量，作为与前述监视用部位处的位置相关联的光强分布。

主权项

1.一种结晶化状态的原位置监测方法，用在为了实现薄膜的结晶化以及促进结晶化过程的至少一种过程，而进行能量束照射的退火处理的过程中，其特征在于，它包括：在所述能量束照射之前、中间以及之后的至少中间或之后，将用来监视所述薄膜的结晶化状态的监测光，直接地或透过所述衬底，对具有所述薄膜的表面以及背面的至少其中一面的预定面积的区域的多个监测部位同时进行照射的监测光照射步骤；以及将来自所述监测光的所述薄膜的所述表面或所述背面的反射光以及透过光的至少一方的光强度的时间变化进行测量，作为与所述监测部位的位置相关的光强分布的测量步骤。